关于颇尔Pall颇尔，为解决复杂流程工艺而生，通过科学的专业知识以解决客户最复杂的工艺挑战；

对于全球80个国家的10,000名颇尔员工而言，我们拥有着共同的心愿：帮助我们的客户接受并完成最大的挑战； 

以保障人们的健康、安全和绿色环境。 我们的生命科学和工业团队，致力服务来自各个领域的客户，

包括：生物技术、制药、医疗、食品饮料、实验室、半导体、航空航天、燃料、石化、化工、汽车和电力行业。 

我们所提供的行业先进技术与解决方案，保护着客户的运营资产，提高着成品工艺质量，降低着大气污染与排放，守护着我们的绿色健康

10,000名全球颇尔员工，我们拥有着共同的心愿：帮助我们的客户完成最大的挑战。我们矢志不渝地投身这份挑战，哪怕他人的质疑，持之以恒地推动科学与技术的进步。

我们一次次与客户的并肩作战，为我们赢得认可，并重新定义了“伙伴”的含义。 1946年创立至今，我们始终坚持着这份执着。

如今，Pall颇尔成为了过滤、分离和纯化的代名词，技术与应用随处可见，影响着生活的方方面面。 从济世救人的基因治疗，到翱翔蓝天的飞机引擎； 

从国计民生的液压工业，到尖端科学的治疗药剂； 美酒佳酿、智能数码、激光显示，亦或是造纸印刷。 

我们关注人们生活的每一天，守护着客户的运营资产；我们抵御大气污染与排放，呵护着人类的绿色健康。  

无论何时何地，我们一往无前；我们的创新技术和伙伴精神，履行着对每一位客户的承诺： 我们，能所不能！

符合并超越工业标准 我们的高科技解决方案可广泛应用于半导体行业的各种应用，如工艺气体过滤、微量水分检测、超纯水以及湿式蚀刻和清洁。

我们开发和制造的化学品过滤和纯化产品是几十年服务于半导体和相关行业的结晶。 

我们和供应商以及最终用户之间建立了合作伙伴关系，以提供卓越的化学机械抛光（CMP）过滤解决方案，并始终致力于开发更高效、更经济的产品，以满足各种研磨液和相关应用的需要。

半导体制造商选择颇尔过滤和纯化产品用于其工艺，以实现功能、质量、节省成本和提高生产效率。 

适用于半导体制造的先进过滤和分离解决方案，具有先进的纳米拦截功能，可获得最佳效果，并节省成本。

 一种清除和最少化有害分子污染物的方法，对于传统颗粒过滤方法无法企及的半导体制造领域而言，其具有重要意义。

颇尔的大容量纯化系统可去除分子杂质，且有很长的使用寿命。颇尔过滤器在分子拦截、渗透性、纯净度和耐用性方面性能卓越。

半导体行业应用包括集成电路、数据存储、平板显示和光伏产品。 我们遵循EPA 2010/15 PFOA自主削减计划，含氟聚合物生产过程中不再使用PFOA（全氟辛酸铵）作为加工辅助材料。

此计划已在全球范围内得到了含氟聚合物制造巨头及其客户的认可。“不含PFOA”一词表示过滤器材料配方中不含微量成分PFOA。

用于湿式蚀刻和清洁应用的所有含氟聚合物过滤器组件均不含PFOA材料。 异丙醇（IPA）是一种半导体行业中常用的晶圆干燥化学品。

随着半导体器件尺寸的变小，IPA中的污染物控制水平日趋严格。过滤对于减少污染物起到重要作用，为了符合这一要求，我们将致力于为市场提供最先进的技术。

通过IPA清除的颗粒尺寸要求更小，以达到与污染物控制水平保持一致。对IPA过滤器的另一个重要要求是使过滤器自身的释放物最少化。

聚四氟乙烯（PTFE）薄膜过滤器取代了高密度聚乙烯（HDPE）薄膜过滤器，用途更广。 我们用于半导体应用的纯化和过滤技术具有 先进的纳米拦截功能。

如需更多信息，可点击这里查看订购信息或和颇尔专家进行交流。

颇尔的CMP过滤器可有效去除较大的研磨颗粒，并维持所需的研磨颗粒配方和化学构成。

采用根据ILD、STI、钨、铜、阻挡层铜等抛光液定制的选项，采用颇尔过滤器可减少微小划痕、电弧擦痕、震纹和加工不稳定性。

颇尔光刻过滤器使用一系列自行研制的薄膜材料，以最大程度地减少颗粒、金属污染、凝胶和微小气泡。

经优化的过滤器设计可减少启动过程中的化学品使用量，并使晶圆表面的缺陷最小化，提高产量。

颇尔的工艺气体过滤器可通过最先进的过滤技术有效去除颗粒。其优势包括过滤效率高、流量大且压差小、杂质气体溢出少。

此外，我们的全金属过滤器对于分子污染具有高度透过性。

一种清除和最少化有害分子污染物的方法，对于传统颗粒过滤方法无法企及的领域而言具有重要意义，

颇尔的大容量纯化系统可高效去除分子杂质，使用寿命长，从而降低成本。

颇尔的超纯水过滤产品可去除胶质污染物，例如硅石、细菌分解物。

此系列的过滤器和纯化器可有效清除UPW系统的污染物，以降低金属离子和分子污染的有害影响。

Ultipleat SP DR 过滤器可为HF和BOE等关键表面处理化学品池提供先进的2nm拦截技术。

具有的非对称性气孔设计，系根据颇尔自主研制的铸膜技术而开发，可降低流动阻力，延长使用寿命。

污染控制是半导体设备制造过程中产生的最棘手的问题之一。

颇尔公司提供过滤、纯化和分离解决方案，可广泛用于各类流体，例如化学品、气体、水、CMP研磨液和光阻。 

UHP工艺气体过滤器用于传统工艺气体过滤的常见问题，例如，过滤器可能释放有害杂质气体以及粒子脱落。

在例行维护和发生系统扰乱时，颇尔卓越的过滤器利用行业领先的金属纤维技术，可以快速置换气体和实现分子透明性。

无O型圈Gaskleen IV和V PTFE膜可避免O型圈变形和过滤器旁路，否则用于临界氨气（NH3）和臭氧（O3）应用时与标准O型圈不相容时会导致出现该情况。

颇尔工艺气体过滤系统清除关键半导体UHP气流中的颗粒污染物。请联系颇尔专家，了解避免缺陷和提高产率以实现现场最大性能的更多信息。 

优化解决方案

颇尔优质工艺气体净化解决方案

颇尔工艺气体净化系统可清除会导致晶圆缺陷的杂质。分子杂质，也被称作气态或挥发性杂质，最近作为缺陷源而更受关注，可使用颇尔净化解决方案有效滤除。

这些净化器可使用材料反应床排除水分、氧气、二氧化碳、一氧化碳、烃和金属羰基化合物等杂质。排出传统颗粒过滤无效的位置的气流中的杂质。

我们的材料可清除背景水平的污染物，不会在工艺流中产生金属或其它有害污染物。所有颇尔净化器组件都集成过滤器，用于清除颗粒物。

应用：

惰性气体

稀有气体

不反应气体

氢化物气体

全氟化碳和腐蚀性气体

优点：

提高工艺稳定性

提高面积/工艺效率

减少缺陷

减少现有颗粒过滤器的改装

定制滤材，过净化各种气体

拥有成本低

工艺气体净化系统和材料可有效清除颗粒过滤无效区域内的杂质。请联系颇尔专家，帮助您优化工艺气体净化系统，通过减少缺陷和提高产率实现最大现场性能。