专为使用点 (PoU) 光刻工艺中的去离子水应用而设计的液体光化学过滤器。小胶囊形状系数和干净的膜/支撑/壳材料在 > 28 nm 节点应用中提供高纯度污染物去除性能。
应用
Optimizer DI 过滤器应用
行业：半导体（光刻）
化学：光化学、溶剂
安装点：工具点
产品规格
材料 膜： UPE*
  支撑、核心、套筒： 高密度聚乙烯
  住房： 聚丙烯
膜面积 DI 1800 平方厘米（1.94 平方英尺）
  DI-L 3600 平方厘米（3.88 平方英尺）
  DI-L (20 纳米) 2100 平方厘米（2.26 平方英尺）
保留评级 DI, DI-L 0.2、0.1、0.05 微米、20 纳米
配件 提供范围广泛的接头，包括 Super Type Pillar 接头、压缩密封件（与 Swagelok 兼容的接头）和 Flaretek 接头。
运行条件 最大入口压力 0.345 兆帕（3.45 巴，50 磅/平方英寸，3.52 千克/平方厘米）@ 25°C (77°F)
  最大正向/反向压差 0.345 兆帕（3.45 巴，50 磅/平方英寸，3.52 千克/平方厘米）@ 25°C (77°F)
    0.28 MPa（2.8 bar，40 psi，2.8 kg/cm²）@ 25°C（77°F）
  工作温度 60°C (140°F)
*表面改性UPE
Entegris 建议客户至少每年更换一次过滤器以确保最佳过滤性能。例行的年度更换也将减少因过度使用而导致化学品泄漏的可能性。
我们的标准保修期为 1 年（自 Entegris 发货之日起）。